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科研用小型等離子蝕刻機10L

等離子清洗機 人氣:1572 發(fā)表時間:2021-04-21
    等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊情況下可以以第四種狀態(tài)存在。等離子蝕刻機在科學研究各方面已經(jīng)取得了廣泛的運用,涉及光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫(yī)學、微觀流體學等領域。

小型等離子蝕刻機-金鉑利萊


科研用等離子蝕刻機主要用于以下實驗:

1、材料清潔和活化
2、等離子涂鍍聚合
3、有機物去除
4、鍵合
5、等離子去膠
6、金屬還原
7、表面刻蝕
8、材料老化實驗
9、改變親水性/疏水性 
10、灰化表面有機層 


等離子刻蝕機技術規(guī)格參數(shù):
 -腔體材料:不銹鋼/石英艙體
 -工作氣路:兩路,可以選配MFC控制
 -射頻頻率:40KHz
 -射頻功率:0-200W/300W可選,可調(diào)
 -控制系統(tǒng):按鈕+單排LED顯示,實時顯示和檢測艙內(nèi)真空度值
 -時間范圍:0—99分59秒連續(xù)可調(diào)
 -工作壓力:樣品倉內(nèi)200Pa以內(nèi)根據(jù)進氣量自動調(diào)節(jié)
 -工作氣體:空氣、氧氣、氮氫混合氣、氬氣、氮氣及其他惰性氣體與混合氣體均可
 -進氣壓力:空氣:常壓     
 -連接氣體鋼瓶:0.1-0.3Mpa
 -工作模式:手動模式和程序化自動模式
 -真空泵:抽速:1升到5升每秒
 -輸入電源:~220V/50Hz